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光学检测与表征中心亮相2025慕尼黑上海光博会

发布时间:2025-03-12

2025年3月11-13日,第十九届慕尼黑上海光博会在上海新国际博览中心盛大举行。本届光博会共汇聚23个国家和地区的1400余家参展企业,吸引专业观众超52000人次,现场技术交流氛围热烈。

图1 上海光机所展位

中国科学院上海光学精密机械研究所光学检测与表征中心(以下简称“本中心”)携自主研发的系列创新成果亮相,展台前咨询者众多,来自航空航天、半导体、精密制造等领域的行业专家与中心科研团队展开深度技术对话。

本中心自成立以来,一直致力于光学检测技术的研发与应用。此次展会上,本中心展示了多项光学检测与表征领域的创新技术,包括自适应零位干涉术(ANI)、基于多尺度分析移相干涉术(MAPSI)的多表面测量技术(MST)以及米级口径平面光学元件面形及衍射波前的高精度拼接检测技术等。

展会期间,本中心还积极参与了多场技术交流和学术研讨活动。中心的专家们与来自全球的同行们进行了深入的交流和探讨,分享了各自在光学检测与表征方面的最新研究成果和技术进展。这不仅促进了中心与国际同行之间的交流与合作,也为中心未来的发展奠定了坚实的基础。

未来,本中心将继续深耕光学检测与表征领域,聚焦关键技术攻关,推动科研成果转化,为行业提供更精准、高效的检测解决方案。同时,我们期待与国内外同行加强交流合作,共同促进光学技术的进步与产业升级,为光电行业的高质量发展贡献力量。


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